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Spectrum Ellipsometer FE-5000

Otsuka Electronics Co.,Ltd. / Otsuka Electronics

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Overview

高精度な薄膜解析が可能な分光エリプソメトリーに加え、測定角度の自動可変機構を実装させることにより、あらゆる種類の薄膜にも対応しております。従来の回転検光子法に加え、位相差版の自動脱着機構を設けることにより、測定精度を向上させました。

Explanation

<特長>
○紫外可視(250~800nm)の波長領域でのエリプソパラメータ測定が可能
○ナノメータオーダーの多層薄膜の膜厚解析が可能
○400ch以上のマルチチャンネル分光法によるエリプソスペクトルの迅速測定が可能
○反射角度可変測定により、薄膜の詳細な解析に対応
○光学定数のデータベース化およびレシピ登録機能の追加により操作性がアップ
○層膜フィッティング解析による光学定数測定による膜厚・膜質管理が可能
<測定項目>
○エリプソパラメータ(tanψ、cosΔ)測定
○光学定数 ( n : 屈折率 , k : 消衰係数 ) 解析
○膜厚解析
<用途>
○半導体ウェハー
ゲート酸化薄膜,窒化膜
SiO₂,SixOy,SiN,SiON,SiNx,Al₂O₃,SiNxOy,poly-Si,ZnSe, BPSG,TiN
レジストの光学定数(波長分散)
○化合物半導体
AlxGa(1-x)As 多層膜,アモルファスシリコン
○FPD
配向膜
プラズマディスプレイ用ITO,MgOなど
○各種新素材
DLC(Diamond Like Carbon),超伝導用薄膜,磁気ヘッド薄膜
○光学薄膜
TiO₂,SiO₂,多層膜,反射防止膜,反射膜
○リソグラフィー分野
g線(436nm),h線(405nm),i線(365nm),KrF(248nm)などの各波長におけるn,k評価
Update:2015-11-10

Spec sheet

Cat.No. FE-5000
Unit Size
Size 1300(W)×900(D)×1750(H)mm
測定サンプル 反射測定サンプル
サンプルサイズ 200x200mm
測定方式 回転検光子法
測定膜厚範囲 0.1nm~
入射(反射)角度範囲 45~90°
入射(反射)角度駆動方式 自動サインバー駆動方式
入射スポット径*2 約φ1.2sup
tanψ測定正確さ ±0.01以下
cosΔ測定正確さ ±0.01以下
膜厚の繰り返し再現性 0.01%以下
測定波長範囲 300~800nm
分光検出器 ポリクロメータ(PDA、CCD)
測定用光源 高安定キセノンランプ
ステージ駆動方式 手動/自動
ローダ対応
Weight 約24kg
Price(JPY) 19,800,000~

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